Китай представил собственный погружной DUV-сканер (deep ultraviolet, глубокий ультрафиолет — технология печати рисунка чипа на пластине светом с длиной волны 193 нанометра), и в тот же понедельник акции ChangXin Memory Technologies (CXMT, крупнейший производитель компьютерной памяти в КНР) взлетели на бирже на 460%, обогнав по капитализации Промышленно-коммерческий банк Китая (крупнейшее финансовое учреждение КНР). Одновременно новость обвалила бумаги мировых производителей памяти и оборудования для чипов.
Машину разрабатывает стартап Shanghai Yuliangsheng, связанный с Huawei и SiCarrier. Её тестируют уже с сентября прошлого года и рассчитывают вывести на серийное производство к 2027 году. Сам сканер рассчитан примерно на уровень 28 нм за один проход, но за счёт многократного экспонирования может доходить до 7 нм, а местами и до 5 нм, хотя с более низким выходом годных чипов. Пока это всё ещё очень скромные объёмы по меркам индустрии: около пяти машин в этом году и порядка двадцати в следующем, тогда как ASML ежегодно поставляет сотни литографов.
Рынок отреагировал резко и широко. Бумаги ASML (мировой монополист в производстве высокотехнологичного оборудования для печати чипов) упали до минимумов с июня просев на 4,6-7% за сессию, а следом за ней в минус ушли и Applied Materials, Lam Research и KLA — компании из той же сферы поставок оборудования для чипов. Достались и производителям памяти — Micron, SK Hynix, SanDisk — и Nvidia, которая сама литографов не делает, но зависит от всей цепочки.
CXMT добавила огня в тот же день собственным дебютом. Компания родом из Хэфэя, основанная в 2016 году, занимает 7,67% мирового рынка DRAM-памяти и является четвертым по величине производителем в мире. IPO на 8,6 миллиарда долларов стало крупнейшим китайским размещением со времен Agricultural Bank of China в 2010-м.
Чтобы понять масштаб происходящего, стоит разобраться в самой технологии. ASML — не единственный в мире производитель литографов вообще, DUV-сканеры делают еще Canon и Nikon. Уникальна ASML именно в EUV (extreme ultraviolet — крайний ультрафиолет, свет с длиной волны 13,5 нанометра): это единственный инструмент, способный печатать самые тонкие слои на топовых техпроцессах вроде 5 и 3 нанометров, и без него не обходится ни один чип для Nvidia, AMD или Apple, каким бы производителем он ни выпускался. DUV при этом никуда не делся и остается рабочей лошадкой всей индустрии. По отчетности ASML за 2025 год, DUV-систем в поставках было почти в шесть раз больше, чем EUV. Разница и в цене: DUV стоит от $500 тысяч до $90 миллионов долларов за штуку, а EUV — от $180 до $300 миллионов, а самые новые модели с увеличенной числовой апертурой подбираются к $400 миллионам.
Путь от DUV к EUV сама ASML прошла небыстро. Ресурсы под постройку рабочего прототипа компания выделила в 2001 году, а коммерчески доступные чипы, сделанные на EUV, дошли до рынка только в 2019-м. Почти два десятилетия и, по независимым оценкам, около 10 миллиардов долларов ушли не на улучшение одной машины, а на сборку целой новой инженерной экосистемы вокруг нее — вакуума, отражающей оптики, источника света на основе оловянной плазмы, контроля загрязнений и новых масок с резистами.
Так что Китай сделал очень серьезный шаг к тому, чтобы потеснить мирового монополиста и получить технологическую независимость от Запада, но до реального успеха ему еще далеко. Впрочем, зная куда идти, китайские команды почти наверняка пройдут этот путь заметно быстрее, чем в свое время ASML.
