Корпорация Intel и японский Национальный институт передовой промышленной науки и технологии (AIST) заключили соглашение о создании в Японии центра исследований и разработок в области производства микросхем.

Это будет первый в Японии центр, оснащенный оборудованием для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV), которое используется для производства самых маленьких микросхем размером 5 нанометров и менее.

Центр будет управляться AIST, входящим в состав Министерства экономики, торговли и промышленности Японии, а Intel будет предоставлять опыт производства чипов с использованием технологии EUV.

Центр исследований и разработок станет первым отечественным исследовательским учреждением, в котором будет использоваться технология EUV, и будет доступен для производителей микросхем и компаний, производящих материалы, за определенную плату.

Цель этого шага — дать возможность японским разработчикам микросхем сотрудничать с AIST и Intel, используя новейшие технологические процессы, что сделает их более конкурентоспособными на мировом рынке.

EUV-оборудование дорогостоящее, каждая единица стоит около 200 млн долларов. В настоящее время японские организации получают доступ к этой технологии через зарубежные организации, такие как бельгийская Imec, считающаяся одним из ведущих мировых центров исследований и разработок в области полупроводников.

Японская полупроводниковая компания Rapidus планирует установить свою собственную технологию Imec EUV в декабре.  

Строительство нового объекта займет от трех до пяти лет и, скорее всего, обойдется в сотни миллионов долларов из-за стоимости оборудования EUV.